Hafnium dapat bereaksi dengan udara untuk membentuk lapisan pelindung film oksida. Ketika suhu 500 ~ 750 ° C, film oksida akan kehilangan efek perlindungannya, dan dikombinasikan dengan oksigen, nitrogen dan gas lainnya ketika pemanasan untuk membentuk oksida dan senyawa nitro. Pada suhu di atas 800 ° C, hafnium dengan cepat mengoksidasi ke HfO2.
Hafnium memiliki ketahanan korosi yang baik dan tidak bereaksi dengan asam klorida encer, encerkan asam sulfat dan larutan alkali yang kuat, tetapi larut dalam asam hidrofluorat dan aqua regia.
Hafnium dalam senyawa sering memiliki valensi +4, senyawa utamanya adalah hafnium oksida HfO2, ada tiga varian berbeda: varian monoklinik, varian tetragonal, dan varian kubik. Hafnium valensi +4 juga mudah terbentuk kompleks dengan fluorida yang terdiri dari K2HFF6, K3HFF7, (NH4) 2HFF6, (NH4) 3HFF7.
